6inch 150mm Silicon Carbide SiC Wafers 4H-N ປະເພດສໍາລັບການຄົ້ນຄວ້າການຜະລິດ MOS ຫຼື SBD ແລະຊັ້ນຮຽນ Dummy

6inch 150mm Silicon Carbide SiC Wafers 4H-N type for MOS or SBD Production Research and Dummy grade Featured Image

ລາຍລະອຽດສັ້ນ:

6-inch silicon carbide substrate ໄປເຊຍກັນເປັນວັດສະດຸປະສິດທິພາບສູງທີ່ມີຄຸນສົມບັດທາງກາຍະພາບແລະເຄມີທີ່ດີເລີດ.ຜະລິດຈາກວັດສະດຸຊິລິຄອນ carbide ທີ່ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງ, ມັນສະແດງໃຫ້ເຫັນການນໍາຄວາມຮ້ອນທີ່ເຫນືອກວ່າ, ຄວາມຫມັ້ນຄົງຂອງກົນຈັກ, ແລະຄວາມທົນທານຕໍ່ອຸນຫະພູມສູງ.substrate ນີ້, ເຮັດດ້ວຍຂະບວນການຜະລິດທີ່ມີຄວາມແມ່ນຍໍາແລະວັດສະດຸຄຸນນະພາບສູງ, ໄດ້ກາຍເປັນວັດສະດຸທີ່ຕ້ອງການສໍາລັບການ fabrication ຂອງອຸປະກອນເອເລັກໂຕຣນິກປະສິດທິພາບສູງໃນຂົງເຂດຕ່າງໆ.

ສົ່ງອີເມວຫາພວກເຮົາ

ລາຍລະອຽດຜະລິດຕະພັນ

ປ້າຍສິນຄ້າ

ຊ່ອງຂໍ້ມູນແອັບພລິເຄຊັນ

6 ນິ້ວ silicon carbide substrate crystal ດຽວມີບົດບາດສໍາຄັນໃນຫຼາຍອຸດສາຫະກໍາ.ກ່ອນອື່ນ ໝົດ, ມັນຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນອຸດສາຫະກໍາ semiconductor ສໍາລັບການຜະລິດອຸປະກອນເອເລັກໂຕຣນິກທີ່ມີພະລັງງານສູງເຊັ່ນ: transistors ພະລັງງານ, ວົງຈອນປະສົມປະສານ, ແລະໂມດູນພະລັງງານ.ການນໍາຄວາມຮ້ອນສູງແລະຄວາມທົນທານຕໍ່ອຸນຫະພູມສູງຂອງມັນເຮັດໃຫ້ການລະບາຍຄວາມຮ້ອນທີ່ດີກວ່າ, ສົ່ງຜົນໃຫ້ການປັບປຸງປະສິດທິພາບແລະຄວາມຫນ້າເຊື່ອຖື.ອັນທີສອງ, wafers silicon carbide ເປັນສິ່ງຈໍາເປັນໃນຂົງເຂດການຄົ້ນຄວ້າສໍາລັບການພັດທະນາວັດສະດຸແລະອຸປະກອນໃຫມ່.ນອກຈາກນັ້ນ, silicon carbide wafer ພົບເຫັນຄໍາຮ້ອງສະຫມັກຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນຂົງເຂດ optoelectronics, ລວມທັງການຜະລິດຂອງ LEDs ແລະ laser diodes.

ຂໍ້ມູນຈໍາເພາະຂອງຜະລິດຕະພັນ

6-inch silicon carbide substrate crystal ດຽວມີເສັ້ນຜ່າກາງຂອງ 6 ນິ້ວ (ປະມານ 152.4 mm).ຄວາມຫຍາບຂອງພື້ນຜິວແມ່ນ Ra < 0.5 nm, ແລະຄວາມຫນາແມ່ນ 600 ± 25 μm.substrate ສາມາດຖືກປັບແຕ່ງດ້ວຍການນໍາທາງ N-type ຫຼື P-type, ອີງຕາມຄວາມຕ້ອງການຂອງລູກຄ້າ.ຍິ່ງໄປກວ່ານັ້ນ, ມັນສະແດງໃຫ້ເຫັນຄວາມຫມັ້ນຄົງກົນຈັກພິເສດ, ສາມາດທົນຄວາມກົດດັນແລະການສັ່ນສະເທືອນ.

ເສັ້ນຜ່າສູນກາງ		150±2.0ມມ (6ນິ້ວ)
ຄວາມຫນາ		350 μm± 25μm
ປະຖົມນິເທດ		ໃນແກນ : <0001>±0.5°		ແກນປິດ: 4.0° ໄປຫາ 1120±0.5°
Polytype		4H
ຄວາມຕ້ານທານ (Ω·ຊມ)	4H-N	0.015~0.028 Ω·cm/0.015~0.025ohm·cm
	4/6H-SI	>1E5
ປະຖົມນິເທດຮາບພຽງ		{10-10}±5.0°
ຄວາມຍາວແປຕົ້ນຕໍ (ມມ)		47.5 ມມ ± 2.5 ມມ
ຂອບ		Chamfer
TTV/Bow/Warp (um)		≤15 /≤40 /≤60
AFM Front (Si-face)		ໂປແລນ Ra≤1 nm
		CMP Ra≤0.5 nm
LTV		≤3μm(10mm*10mm)	≤5μm(10mm*10mm)		≤10μm(10mm*10mm)
TTV		≤5μm	≤10μm		≤15μm
ເປືອກສີສົ້ມ/ຂຸມ/ຮອຍແຕກ/ການປົນເປື້ອນ/ຮອຍເປື້ອນ/ຮອຍຂີດຂ່ວນ		ບໍ່ມີ	ບໍ່ມີ		ບໍ່ມີ
ຫຍໍ້ໜ້າ		ບໍ່ມີ	ບໍ່ມີ		ບໍ່ມີ

6-inch silicon carbide substrate ໄປເຊຍກັນເປັນວັດສະດຸປະສິດທິພາບສູງຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນ semiconductor, ການຄົ້ນຄວ້າ, andoptoelectronics ອຸດສາຫະກໍາ.ມັນສະຫນອງການນໍາຄວາມຮ້ອນທີ່ດີເລີດ, ຄວາມຫມັ້ນຄົງກົນຈັກ, ແລະການຕໍ່ຕ້ານອຸນຫະພູມສູງ, ເຮັດໃຫ້ມັນເຫມາະສົມສໍາລັບ fabrication ຂອງອຸປະກອນເອເລັກໂຕຣນິກພະລັງງານສູງແລະການຄົ້ນຄວ້າວັດສະດຸໃຫມ່.ພວກເຮົາສະຫນອງການສະເພາະຕ່າງໆແລະທາງເລືອກການປັບແຕ່ງເພື່ອຕອບສະຫນອງຄວາມຕ້ອງການຂອງລູກຄ້າທີ່ຫຼາກຫຼາຍ.ຕິດຕໍ່ພວກເຮົາສໍາລັບລາຍລະອຽດເພີ່ມເຕີມກ່ຽວກັບ wafers silicon carbide!