50.8mm 2inch GaN ເທິງ sapphire Epi-layer wafer

50.8mm 2inch GaN ໃນ sapphire Epi-layer wafer ຮູບພາບທີ່ໂດດເດັ່ນ

ລາຍລະອຽດສັ້ນ:

ໃນຖານະເປັນວັດສະດຸ semiconductor ລຸ້ນທີສາມ, gallium nitride ມີຄວາມໄດ້ປຽບຂອງການຕໍ່ຕ້ານອຸນຫະພູມສູງ, ຄວາມເຂົ້າກັນໄດ້ສູງ, ການນໍາຄວາມຮ້ອນສູງແລະຊ່ອງຫວ່າງແຖບກ້ວາງ.ອີງຕາມວັດສະດຸ substrate ທີ່ແຕກຕ່າງກັນ, ແຜ່ນ gallium nitride epitaxial ສາມາດແບ່ງອອກເປັນສີ່ປະເພດ: gallium nitride ອີງໃສ່ gallium nitride, silicon carbide ອີງໃສ່ gallium nitride, sapphire ອີງໃສ່ gallium nitride ແລະ silicon ອີງ gallium nitride.ແຜ່ນ silicon-based gallium nitride epitaxial ແມ່ນຜະລິດຕະພັນທີ່ຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງທີ່ສຸດທີ່ມີຄ່າໃຊ້ຈ່າຍໃນການຜະລິດຕ່ໍາແລະເຕັກໂນໂລຢີການຜະລິດແກ່.

ສົ່ງອີເມວຫາພວກເຮົາ

ລາຍລະອຽດຜະລິດຕະພັນ

ປ້າຍສິນຄ້າ

ການນໍາໃຊ້ແຜ່ນ gallium nitride GaN epitaxial

ອີງຕາມການປະຕິບັດຂອງ gallium nitride, ຊິບ gallium nitride epitaxial ສ່ວນໃຫຍ່ແມ່ນເຫມາະສົມສໍາລັບພະລັງງານສູງ, ຄວາມຖີ່ສູງ, ແລະຄໍາຮ້ອງສະຫມັກແຮງດັນຕ່ໍາ.

ມັນສະທ້ອນໃຫ້ເຫັນໃນ:

1) bandgap ສູງ: bandgap ສູງປັບປຸງລະດັບແຮງດັນຂອງອຸປະກອນ gallium nitride ແລະສາມາດອອກພະລັງງານສູງກວ່າອຸປະກອນ gallium arsenide, ໂດຍສະເພາະແມ່ນເຫມາະສົມສໍາລັບສະຖານີການສື່ສານ 5G, radar ທະຫານແລະພາກສະຫນາມອື່ນໆ;

2) ປະສິດທິພາບການແປງສູງ: ຄວາມຕ້ານທານຂອງອຸປະກອນໄຟຟ້າສະຫຼັບ gallium nitride ໄຟຟ້າແມ່ນ 3 ຄໍາສັ່ງຂອງຂະຫນາດຕ່ໍາກວ່າອຸປະກອນ silicon, ຢ່າງຫຼວງຫຼາຍສາມາດຫຼຸດຜ່ອນການສູນເສຍ on-switching;

3) ການນໍາຄວາມຮ້ອນສູງ: ການນໍາຄວາມຮ້ອນສູງຂອງ gallium nitride ເຮັດໃຫ້ມັນມີປະສິດທິພາບການກະຈາຍຄວາມຮ້ອນທີ່ດີເລີດ, ເຫມາະສົມສໍາລັບການຜະລິດຂອງພະລັງງານສູງ, ອຸນຫະພູມສູງແລະພາກສະຫນາມອື່ນໆຂອງອຸປະກອນ;

4) ຄວາມເຂັ້ມແຂງພາກສະຫນາມໄຟຟ້າ breakdown: ເຖິງແມ່ນວ່າຄວາມເຂັ້ມແຂງພາກສະຫນາມໄຟຟ້າ breakdown ຂອງ gallium nitride ແມ່ນຢູ່ໃກ້ກັບຂອງ silicon nitride, ເນື່ອງຈາກຂະບວນການ semiconductor, ວັດສະດຸ lattice mismatch ແລະປັດໃຈອື່ນໆ, ຄວາມທົນທານຕໍ່ແຮງດັນຂອງອຸປະກອນ gallium nitride ປົກກະຕິແລ້ວແມ່ນປະມານ 1000V, ແລະ. ແຮງດັນການນໍາໃຊ້ທີ່ປອດໄພແມ່ນປົກກະຕິແລ້ວຕ່ໍາກວ່າ 650V.

ລາຍການ	GaN-TCU-C50	GaN-TCN-C50	GaN-TCP-C50
ຂະໜາດ	e 50.8mm ± 0.1mm
ຄວາມຫນາ	4.5±0.5um		4.5±0.5um
ປະຖົມນິເທດ	C-ຍົນ(0001) ±0.5°
ປະເພດການນໍາ	ປະເພດ N (ຍົກເລີກ)	N-type (Si-doped)	ປະເພດ P (Mg-doped)
ຄວາມຕ້ານທານ (3O0K)	< 0.5 Q・ຊມ	< 0.05 Q・ຊມ	~ 10 Q・ຊມ
ຄວາມເຂັ້ມຂຸ້ນຂອງຜູ້ໃຫ້ບໍລິການ	< 5x10¹⁷ຊັງຕີແມັດ^-3	> 1x10¹⁸ຊັງຕີແມັດ^-3	> 6x1016 ຊມ^-3
ການເຄື່ອນໄຫວ	~ 300 ຊຕມ²/Vs	~ 200 ຊຕມ²/Vs	~ 10 ຊຕມ²/Vs
ຄວາມຫນາແຫນ້ນຂອງ dislocation	ໜ້ອຍກວ່າ 5x10⁸ຊັງຕີແມັດ^-2(ຄິດໄລ່ໂດຍ FWHMs ຂອງ XRD)
ໂຄງສ້າງຍ່ອຍ	GaN ເທິງ Sapphire (ມາດຕະຖານ: SSP Option: DSP)
ພື້ນທີ່ໃຊ້ໄດ້	> 90%
ຊຸດ	ບັນຈຸຢູ່ໃນຫ້ອງຮຽນ 100 ສະພາບແວດລ້ອມຫ້ອງສະອາດ, ໃນ cassettes ຂອງ 25pcs ຫຼືພາຊະນະ wafer ດຽວ, ພາຍໃຕ້ບັນຍາກາດໄນໂຕຣເຈນ.